应用范围
主要用于镀制多种金属,也可以镀多层膜、合金膜及化学物膜,如镀超硬耐磨损膜、防腐蚀膜、装饰膜(金、银、黑、红、蓝、绿等颜色),结合磁控溅射技术可镀制多层复合膜。
结构特点
1、采用脉冲技术,使沉积粒子细化,膜的性能提高,且具有沉积速度快、离子能力大等特点;
2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源,适合范围广;
3、新型靶源结构,有效提高离和膜层均匀性;
4、所镀膜层具有硬度高,膜层与基底结合强度好,耐酸、碱、盐的能力强的特点。
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