SEF-G5:激光刻膜机
产品特点:
l 半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器
l 膜面朝上非接触式工作台
l 直线电机驱动
l 四路同步输出
l 自动识别跟踪定位
l 自动进出料
l 在线监测
l 静态显示
技术参数:
型号规格
SEF-G5
有效加工幅面
1.1m×1.4m(或635mm×1245mm )
运行速度
2000mm/s
重复定位精度
±10μm
刻线直线度
±10μm / 1000 mm
典型刻膜线宽
30~60μm
三线外沿总宽度
300~500μm
选项和配件:
高标配,可根据需要移除不需要的部件。
应用和市场:
非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻线、切割),其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜)。
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