设备名称:
等离子体增强型化学气相沉积沉积设备
(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition PECVD)
设备生产厂家:
英国STS
设备型号:
EMSCMULTIPLEX CVD
设备用途:
用于SiO2和SixOy等光学薄膜的生长
设备目前状况:
1、目前设备各组成部分完整,无功能性缺失
1、在循环水、压缩空气、氮气以及UPS供电稳定的条件下, PECVD各主要部分都可以正常运转(包括供电系统、循环冷却系统、压缩气体部分、反应腔和Load-Lock的控制电脑、反应腔的主真空泵和Load-Lock的小真空泵、尾气处理系统以及gasbox内的质量流量控制阀都能正常工作)
2、各毒气探测头和报警系统在设备移交后可能一直没有定期维护,但开启毒气探测和报警系统以及排风系统后,没有出现报警迹象。
3、反应腔内的真空度目前保持在0.1mTor以下的正常水平,可以满足工艺过程的需要。
4、Load-lock可以正常抽真空
设备各组成部分:
1、 主控制柜(含外接电脑)
2、 反应腔(Chamber)
3、 送片机构(Load-Lock)
4、 配气系统(GasBox)
5、 尾气处理系统(Scrubble)
6、 射频源
7、 主控电脑
8、 气柜
9、 毒气探头(笑气、硅烷、锗烷、硼烷、磷烷)
10、毒气报警装置
供应湖北武汉二手EMSC MULTIPLEX CVD化工设备1台,成色不限,供应价格电议或面议,信息有效期至2015-09-08。
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